福建食品仟級無塵車間專業規劃設計
以上就是對潔凈車間的使用要求的介紹，希望能夠幫助到大家!我們大家在日常使用潔凈車間的時候，一定要注意以上所說的幾點，以免對于潔凈車間的環境造成負面的影響，從而影響生產質量，造成不可估量的損失，那就得不償失了。所以，對于無塵潔凈車間的使用要求我們要牢記于心。單向流氣流的凈化原理是活塞和擠壓原理，把灰塵從一端向另一端擠壓出去，用潔凈氣流置換污染氣流，包括垂直單向流和水平單向流。垂直單向流是氣流以一定的速度（0.25~0.5m/s）從頂棚流向地坪的氣流流型。這種氣流能創造100級、10 級、1級或更高潔凈級別。但其初投資很高、運行費很高，工程中盡量將其面積壓縮到較小，用到須用的部位。水平單向流是氣流以一定的速度（0.3~0.5m/s）從一面墻流向對面墻的氣流流型。該氣流可創造100 級的凈化級別，其初投資和運行費低于垂直單向流流型。
目前半導體潔凈室對溫濕度的控制范圍通常為:溫度22±2℃，濕度45±5%RH。本文通過對現有潔凈室溫濕度控制系統的研究，引入模糊控制，以提高溫濕度控制的實際效果。對空氣單純地加熱或制冷(未達到飽和狀態)過程，是含濕量保持不變的過程，即對濕度保持不變的過程。濕空氣經過盤管加熱，溫度升高而相對濕度下降;相反,對冷卻過程，溫度下降而相對濕度相應升高，因此我們可以得出，溫度和相對濕度是兩個不同方向的控制量，要使溫濕度同時向相同的趨勢變化，
在生物制的潔凈車間中對易吸潮品的相對濕度要求45％一50％RH(夏季)，片劑等固體制劑50％～55％RH，水針及口服液55％～65％RH。清潔車間大部分凈化廠房尤其電子工業用的潔凈廠房都有嚴格的恒溫、恒濕的要求，不僅對廠房內的溫、濕度有嚴格的要求，而且對溫度和相對濕度的波動范圍也有嚴格的要求。這樣有利于的控制品的生產質量。在大規模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅(silicon)片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0。24um線性膨脹，所以有 ? plusmn;0。1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，是怕鈉(Sodium)的半導體車間，這種車間不宜超過25度。沒有潔凈室，就不可能批量生產污染敏感的零件。在FED-STD-2中，潔凈室被定義為具有空氣過濾、分布、優化、結構材料和設備的房間，具體的規則操作程序控制空氣懸浮顆粒的濃度，以達到適當的顆粒清潔度。