懷化潔凈車間設備生產廠

　　懷化潔凈車間設備生產廠

　　半導體 晶圓車間設計布要點 | CEIDI西遞潔凈室主要的作用就在其能控制產品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度及溫濕度，使產品能在一個良好之環境空間中生產。在晶圓車間中，為了解決晶圓測試中良率不佳、測試結果不穩定，探針測試卡的損毀及晶圓的報廢這些問題，潔凈室及輔助室的設計就該是廠區建設的首要任務之一。越是大的從事晶圓生產的企業對整個工廠自動化、智能化程度要求越高，所以對半導體潔凈生產車間的設計師來說，動輒幾百億投資的晶圓廠區做怎樣的合理規劃、系統架設以提高整個潔凈工廠的空間利用率、減少機臺的閑置時間、提升產品的良率是他們設計的重中之重。當然這些內容也是工廠設計定稿前需要與廠家重點探討研究的問題。晶圓車間對生產環境的溫度、濕度、潔凈度、防微振等均有著嚴格的控制要求，且各種配套系統繁多復雜。CEIDI西遞設計師常規也會采用FAB布設計。大多數FBA工廠都是四層結構，從上至下分別為:上技術夾層，潔凈生產層，潔凈下技術夾層和非潔凈下技術夾層。

　　目前半導體潔凈室對溫濕度的控制范圍通常為:溫度22±2℃，濕度45±5%RH。本文通過對現有潔凈室溫濕度控制系統的研究，引入模糊控制，以提高溫濕度控制的實際效果。溫濕度控制系統實現基本上， 現在潔凈室溫濕度要求為22±2℃，45±5%RH，當然根據生產工藝的需求，對溫濕度的要求也不盡相同。新風空調箱的溫濕度控制新風空調箱基本結構新風空調箱基本結構如圖3 所示，其處理流程如下:空氣過濾———包括初效、中效、三部分;溫度處理———包括預熱盤管、一次表冷盤管、再熱盤管三部分;

　　由于每種工藝制程設備的發熱量大不相同，導致潔凈室內的機臺發熱量分布不均勻。例如爐管機臺的發熱量相較于其他設備大得多(基本在3-5倍之間)，因此在潔凈室內用干盤管DCC帶走這些熱量。通常要求同一制程的氣流經過同一組DCC，在建筑已經確定的情況下，制程的分布要與回風道垂直。如果條件允許，好是將不同制程的區域隔開，這樣既可避免金屬粒子污染，又能提高溫濕度控制的穩定性。通常情況下， 潔凈室的溫濕度控制在22±2℃，45±5%RH，MAU 的送風溫度基本控制在21℃-21.5℃，在與循環風混合后，FFU

　　潔凈室是空氣懸浮粒子濃度受控的空間。潔凈室是特殊的房間，該房間內的空氣懸浮粒子濃度、空氣溫度、濕度、壓力等參數均需要控制?？諝鈶腋×Ｗ邮怯刑囟êx的，它是尺寸范圍在0.1～5μm的固體和液體粒子，它用于空氣潔凈度的分級?？諝鈶腋×Ｗ?，有的有生命（如細菌、病毒等），有的無生命（如塵粒）。有生命的微粒其實就是細菌等微生物附著在無生命的塵粒上形成的。