西藏凈化工程設計生產廠
發布時間：
2023-03-24 18:57
西藏凈化工程設計生產廠
按照國際慣例，無塵凈化級別主要是根據每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標準的粒子數量來規定。也就是說所謂無塵并非100%沒有一點灰塵，而是控制在一個非常微量的單位上。當然這個標準中符合灰塵標準的顆粒相對于我們常見的灰塵已經是小的微乎其微，但是對于光學構造而言，哪怕是一點點的灰塵都會產生非常大的負面影響，所以在光學構造產品的生產上，無塵是必然的要求。
粒子計數器設備分落散布在車間各監控點位，由安裝了系統監控軟件的主控電腦控制各采集點的工作狀態；監控軟件可選擇設定測試粒徑、測試時間、采樣間隔、刷新頻率、顯示單位、采樣模式和超限報警等，并可對測試歷史數據按需求進行查詢、統計、分析及繪制曲線圖，并可提供moudbus485通訊協議對接用戶物聯網平臺，供用戶自行開發和應用。半導體器件晶圓的生產過程中，易受外來物、灰塵粒子、金屬離子等外來物的影響而破壞表面結構，這種產品特性也決定了其制造過程中有潔凈度的要求。所以潔凈室至于半導體行業是重要的存在。潔凈室的潔凈度控制不好，會導致空氣中的含塵量過高，從而導致外來物的增加，進而影響到生產、測試的準確度、穩定性。嚴重還會導致探針測試卡的損壞。
空容器的存放應劃分區域，以避免使用的錯誤。使用中應檢查容器的完好情況，如發現裂隙、破口等應及時更換。應制定容器的清潔規程，用后及時清洗，并清洗效果。容器使用一段時間正常損壞時，車間及時給予更換;屬非正常損壞時，需說明原因，由車間做出相應的處理。物料進入生產區:車間領料員憑領料單領取物料，領料員領取的物料應有檢驗合格的報告書。生產區內不能存放多余的物料或與生產無關的物料，進出生產區的物料應控制在限度。為了工藝衛生污染，進出生產區的各種物料從物流通道進出，要進行清潔。
目前半導體潔凈室對溫濕度的控制范圍通常為:溫度22±2℃，濕度45±5%RH。本文通過對現有潔凈室溫濕度控制系統的研究，引入模糊控制，以提高溫濕度控制的實際效果。溫濕度控制系統實現基本上， 現在潔凈室溫濕度要求為22±2℃，45±5%RH，當然根據生產工藝的需求，對溫濕度的要求也不盡相同。新風空調箱的溫濕度控制新風空調箱基本結構新風空調箱基本結構如圖3 所示，其處理流程如下:空氣過濾———包括初效、中效、三部分;溫度處理———包括預熱盤管、一次表冷盤管、再熱盤管三部分;